【IPO價值觀】拓荊科技盈利能力不足 產(chǎn)品類型單一且周轉(zhuǎn)率低
【編者按】近年來,中國集成電路產(chǎn)業(yè)一直處于風(fēng)口之中。隨著科創(chuàng)板的推出,越來越多的企業(yè)準(zhǔn)備IPO以謀求更快的發(fā)展。為了更全面地了解IPO公司整體財務(wù)水平和行業(yè)地位,推出“IPO價值觀——財務(wù)指標(biāo)”系列,將正在IPO的公司各方面財務(wù)指標(biāo)與集微數(shù)據(jù)庫中A股135家中國芯上市公司對比分析,并對其排名,以供半導(dǎo)體投資者和行業(yè)人員參考。本期進(jìn)行對比分析的公司為拓荊科技股份有限公司。
據(jù)筆者查詢上交所網(wǎng)站可知,拓荊科技科創(chuàng)板IPO處于已問詢狀態(tài)。據(jù)招股說明書顯示,拓荊科技主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。
公司主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備、原子層沉積(ALD)設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積(SACVD)設(shè)備三個產(chǎn)品系列,已廣泛應(yīng)用于國內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線,并已展開10nm及以下制程產(chǎn)品驗證測試。
報告期內(nèi),主要產(chǎn)品銷售收入及占公司主營業(yè)務(wù)收入的比重如下:
分業(yè)務(wù)來看,報告期內(nèi),拓荊科技PECVD設(shè)備收入占比較高且增長較快,為公司的主要收入來源,占比近100%。
【編者按】近年來,中國集成電路產(chǎn)業(yè)一直處于風(fēng)口之中。隨著科創(chuàng)板的推出,越來越多的企業(yè)準(zhǔn)備IPO以謀求更快的發(fā)展。為了更全面地了解IPO公司整體財務(wù)水平和行業(yè)地位,推出“IPO價值觀——財務(wù)指標(biāo)”系列,將正在IPO的公司各方面財務(wù)指標(biāo)與集微數(shù)據(jù)庫中A股135家中國芯上市公司對比分析,并對其排名,以供半導(dǎo)體投資者和行業(yè)人員參考。本期進(jìn)行對比分析的公司為拓荊科技股份有限公司。
據(jù)筆者查詢上交所網(wǎng)站可知,拓荊科技科創(chuàng)板IPO處于已問詢狀態(tài)。據(jù)招股說明書顯示,拓荊科技主要從事高端半導(dǎo)體專用設(shè)備的研發(fā)、生產(chǎn)、銷售和技術(shù)服務(wù)。公司聚焦的半導(dǎo)體薄膜沉積設(shè)備與光刻機(jī)、刻蝕機(jī)共同構(gòu)成芯片制造三大主設(shè)備。
公司主要產(chǎn)品包括等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積(PECVD)設(shè)備、原子層沉積(ALD)設(shè)備和次常壓化學(xué)氣相沉積(SACVD)設(shè)備三個產(chǎn)品系列,已廣泛應(yīng)用于國內(nèi)晶圓廠14nm及以上制程集成電路制造產(chǎn)線,并已展開10nm及以下制程產(chǎn)品驗證測試。
報告期內(nèi),主要產(chǎn)品銷售收入及占公司主營業(yè)務(wù)收入的比重如下:
分業(yè)務(wù)來看,報告期內(nèi),拓荊科技PECVD設(shè)備收入占比較高且增長較快,為公司的主要收入來源,占比近100%。
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- 編輯:李娜
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